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为市场提供精确的高剂量离子植入设备
专访Axcelis资深营销副总裁Mark Namaroff

【作者: 王岫晨】2006年10月30日 星期一

浏览人次:【3135】

亚舍立科技(Axcelis Technologies)供应先进半导体制程设备,包括离子植入(Ion Implant)、快速热处理(RTP)、清洗(Cleaning)与固化(Curing)等设备。其业务涵盖全球前20大的芯片制造商,并与日本住友重工SHI合资(50%-50%)设立日本SEN Corporation以服务日本市场。目前并积极布局全球以及亚太市场。


《图一 Axcelis资深营销副总裁Mark Namaroff》
《图一 Axcelis资深营销副总裁Mark Namaroff》

Axcelis资深营销副总裁Mark Namaroff表示,Axcelis所推出的Optima HD离子植入设备,是专为传统高剂量离子植入及65nm以下组件制造应用扩展而开发的离子植入设备。Optima HD离子植入设备的特点是离子能量低,高剂量系统可为市场提供从200eV到80keV的最宽的能量范围,有助于客户覆盖所有传统高剂量植入设备,同时可为重要的中剂量应用提供最多的功能性和投资效率。Optima HD也支持形成双重多晶(dual poly)门和硅绝缘体应用分子和氢的植入,可以提高设备的速度和性能。


Axcelis的表示,Optima HD是市场上最精确、通用和具备高剂量植入生产能力的设备。与Optima平台一样,当市场进入65nm以下制程技术时,Axcelis便设计了Optima HD,以满足晶体管制作过程中所发生的基本变化。Optima HD的问世证明了Axcelis的策略正确,也就是开发可扩展的植入技术,为大多数客户提供满足当前需求的最大灵活性,同时应对新一代晶体管设计和组件结构方面新的挑战。
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