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突破行动OLED显示器量产瓶颈
蚀刻技术进入制程

【作者: Tung-Huei Ke】2021年06月16日 星期三

浏览人次:【6401】

OLED显示器的市场热度持续攀升,在行动显示与微显示(micro-display)应用上,一些特定的技术挑战也随之浮现。现有的制程,像是精密金属遮罩(fine metal mask;FMM)与喷墨印刷(inkjet printing;IJP)技术,都还无法满足新世代显示技术的应用需求,例如达到更高的解析度与像素密度,或是打造出成像品质充足的透明显示器。



图一 : 爱美科在OLED显示器制造技术上发现了重大突破,可望解决次世代行动显示的技术瓶颈。
图一 : 爱美科在OLED显示器制造技术上发现了重大突破,可望解决次世代行动显示的技术瓶颈。

爱美科(imec)证实了光刻技术(photolithography),可??成为克服FMM与IJP技术瓶颈的首选方法,因此,他们将一套全新的制程导入了过往几??无人预料到的领域。


行动OLED显示器的趋势
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