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欧洲首款Multibeam Mask Writer新机型强化半导体生态系 (2024.11.13)
欧洲追求强化半导体制造能力踏出关键的一步。Tekscend Photomask Germany GmbH（前身为Toppan Photomasks）与Advanced Mask Technology Center（AMTC）合作，已接收并安装欧洲首款Multibeam Mask Writer━━MBMW-100 Flex机型，旨在满足从先进光学应用到尖端EUV光刻的先进半导体需求 |
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Toppan Photomask与IBM签署EUV光罩研发协议 推进2奈米技术 (2024.02.14)
半导体光罩供应商Toppan Photomask宣布，已与IBM就使用极紫外(EUV)光刻技术的2奈米(nm)节点逻辑半导体光罩的联合研发达成协议。该协议尚包含开发用於下一世代半导体的高NA EUV光罩 |
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美国半导体设备材料产业出现衰落迹象 (2003.09.30)
美国半导体设备及材料产业在1980年代初期至中期没落后，于1990年代藉成立International Sematech产业团体达到重振旗鼓之效，但短短2～3年的时间内，美国仍在重要的微影、电子束设备等市场失去主导地位，不仅美国硕果仅存的微影设备商Silicon Valley Group在2001年由荷商ASML Holding以16亿美元收购，美国其他设备及材料技术近来亦有落后的迹象 |
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光罩工业及其制程技术之探讨 (2001.11.05)
光罩工业的变动一直与半导体的发展息息相关，在晶圆制程不断缩短与光罩工业间相互流血竞争的情形下，光罩工业该如何生存？ |
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黄光技术力求突破 (2001.09.01)
黄光，即是为避免产品曝光，产品在黄光下进行一连串的半导体微影制程动作，目前已有的微影技术为可见光、近紫外光、中紫外光、深紫外光、真空紫外光、极短紫外光 |
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光罩产业的现况与发展趋势 (2000.01.01)
参考资料： |
